• 射频控制

    射频控制
    射频控制&检测产品包括射频电源、匹配器、射频传感器和直流电源，旨在通过领先的技术实现精准的等离子体控制，为半导体制造工艺 （如刻蚀、薄膜沉积等） 提供稳定的射频能量输出。华丞电子多年潜心研发，拥有多品类的射频控制&检测产品，也可开发定制化的配置和功能来满足特定的应用要求。射频电源工作频率覆盖400kHz至13.56MHz，功率范围从5W至45kW，并支持扫频功能与多种脉冲模式。匹配器产品具有单输出、双输出、多频等多种规格，工作频率覆盖400kHz至60MHz，通过基于模型的动态阻抗匹配算法，实现射频能量高效、精确传输至等离子体腔体，满足半导体等领域的复杂需求。射频传感器能够对反应腔室状态进行电压、电流、阻抗和相位等实时检测，为半导体工艺装备提供稳定的过程监控及故障诊断。ESC直流电源是静电卡盘 （ESC）专用电源，具有最高达15kV （±7.5kV） 的电压输出，包括双极型和单极型，可适配各类静电卡盘，为晶圆吸附提供稳定静电场。

    • 射频电源

      射频电源
      射频电源是一种能够产生一定频率正弦波的电源设备，其核心功能是通过直流供电单元、射频功率单元、测量模块、控制模块、通 讯接口等电路系统，将工厂端电能转换为高频电能，并且功率/频率可得到精确控制。

    • 匹配器

      匹配器
      匹配器用于匹配射频电源与反应腔室间的阻抗，实现射频功率最大化传输到反应腔室中。匹配器可基于实际应用场景进行定制化开发，能够在不同频率、不同功率范围实现快速、准确及稳定的阻抗匹配。

    • 直流/低频电源

      直流/低频电源
      直流/低频电源是指通过能量转换机制将交流电或其他能量形式转化为直流/低频电能的电源设备。ESC直流电源是一款专用于半导 体领域的高压产品，可适配单极/双极，库伦型/JR型等静电卡盘，为晶圆吸附提供稳定的静电场；RPS电源是一款专用于半导体领 域的高稳定性低频电源，广泛应用于氧化物、氮化物等清洗工艺设备，为其维持稳定的等离子体。

  • 流体控制

    流体控制
    流体控制是利用各种控制单元来精确控制流体流量、压力、真空度等关键指标，以满足工业领域的特殊工艺需求。华丞电子深耕流体控制领域40余年，目前已形成气体质量流量控制器、压力控制器、真空规、真空压力开关、压力传感器、压差计、液体压力传感器、汽化器、气路系统等系列产品。这些产品在集成电路、新能源光伏、真空镀膜、食品、医疗及科学研究等众多领域都发挥着至关重要的作用。

    • 气体流量测量控制

      气体流量测量控制
      气体质量流量控制器(MFC)属于一种工业自动化仪表。华丞电子自1979年研制出第一款热式模拟气体质量流量控制器以来，持续迭代创新，不断优化性能，相继推出了热式数字气体质量流量控制器和压力式数字气体质量流量控制器，产品具有高精度、高可靠性、低零漂、耐腐蚀、快速响应等优势。目前产品种类多达50 余种，涵盖普通型、大量程型、高精度型、快响应型、耐压型、金属密封型等，已成为高端制造领域不可或缺的核心零部件之一。

    • 真空测量控制

      真空测量控制
      华丞电子不断拓宽产品线，基于气体质量流量控制器先进技术研发经验，成功研发生产了气体压力控制器、电容薄膜真空规、压力变送器、真空压力开关、蝶阀、摆阀等精密控制零部件，产品各项技术指标均严格执行SEMI标准，具有高精度、高稳定性、快速响应、重复性强等优势，为高端制造领域提供稳定真空测控产品，确保生产过程的稳定性和质量的一致性。

    • 液体流量测量控制

      液体流量测量控制
      华丞电子拥有种类多样的液体控制类产品，涵盖了液体流动、温度、液位、计量以及控制等多个方面，包括液体压力传感器、液体加热器、液体流量控制器、液体流量计、汽化器以及蒸汽过滤器等产品。通过应用各种控制元件、传感器和控制系统，实现对液体的精确控制。

    • 气路系统

      气路系统
      作为精密流体控制的集成者，华丞电子充分发挥零部件平台整合优势，精研客户需求，将气路设计能力、精密加工能力和系统测试能力深度融合。通过将气体质量流量控制器、隔膜阀、调压阀、压力传感器、过滤器等核心零部件优化配置，可实现对多种工艺气体的压力调节、过滤、流量控制、混流等功能，为客户提供定制化VCR、IGS和卡套型气路系统整体解决方案。凭借多年流体控制研发生产经验，并依托自有特气实验室等优势，华丞电子气体系统具备高密封性、高精度、高集成、安全可靠度高等优点。

  • 晶圆传输

    晶圆传输
    晶圆传输是通过智能运动控制系统实现晶圆的可靠传输和存储，通过优异的调度管理、颗粒物控制、振动抑制等技术实现晶圆传送的高良率控制。华丞电子研发生产的晶圆传输产品可实现晶圆单片、批次的大气和真空稳定传输控制，目前研发制造的清洗设备晶圆传输系统（WTS）、立式炉管设备晶圆储存系统（Stocker）、刻蚀与沉积设备晶圆传输平台（WTM）、刻蚀与沉积设备前端模块（EFEM）已在半导体和泛半导体领域的多家客户端实现量产交付。

    • 晶圆盒传送存储系统 Stocker

      晶圆盒传送存储系统 Stocker
      晶圆盒传送存储系统Stocker设备主要应用于半导体领域，在立式炉生产工艺中对晶圆盒FOUP起到缓存作用。Stocker设备有效解决了立式炉工艺与上下游工艺之间供应量及节拍不匹配的问题，同时也实现了全自动晶圆盒FOUP的开关功能，避免了人为干预产生的影响，保证了立式炉生产工艺的洁净环境，提高了产品质量。

    • 晶圆传输系统（WTS）

      晶圆传输系统（WTS）
      通过与客户天车OHT系统交互实现晶圆盒Foup的进出，通过FOUP机械手移载实现在不同工艺制程Stage之间互传移载和存储，通过内部Loadport实现Foup的开盒和Mapping，通过WTS实现Wafer的移载、合片和分片，通过三个位置的Mapping实现Wafer的状态确认和数据比对，通过固定BF实现50P Wafer缓存，通过PTZ实现与清洗工艺Robot的交接。顶部EFU实现机台微洁净环境的保持，顶部离子棒实现传输路径的静电残留去除。

    • 设备前端模块（EFEM）

      设备前端模块（EFEM）
      EFEM设备即设备前端模块(Equipment Front End Module)。EFEM设备能够与各种半导体工艺设备（刻蚀，PVD，CVD，清洗设备等）实现无缝连接，保证晶圆在洁净环境下的自动化传输和对晶圆的高效管理。EFEM设备内部带有多重互锁保护，保障晶圆传输过程中，人员与设备的安全。

    • 晶圆传输平台（WTM）

      晶圆传输平台（WTM）
      晶圆传输平台是半导体工艺设备不可或缺的构成部分，主要实现晶圆在洁净环境以及真空环境下在不同模块下的自动化传输，晶圆传输平台可以快速在大气及真空状态进行切换，满足系统工艺需求。该设备通常根据客户需求定制开发，满足客户工艺传片的需求。
  • 射频控制
    射频控制
    射频控制&检测产品包括射频电源、匹配器、射频传感器和直流电源，旨在通过领先的技术实现精准的等离子体控制，为半导体制造工艺 （如刻蚀、薄膜沉积等） 提供稳定的射频能量输出。华丞电子多年潜心研发，拥有多品类的射频控制&检测产品，也可开发定制化的配置和功能来满足特定的应用要求。射频电源工作频率覆盖400kHz至13.56MHz，功率范围从5W至45kW，并支持扫频功能与多种脉冲模式。匹配器产品具有单输出、双输出、多频等多种规格，工作频率覆盖400kHz至60MHz，通过基于模型的动态阻抗匹配算法，实现射频能量高效、精确传输至等离子体腔体，满足半导体等领域的复杂需求。射频传感器能够对反应腔室状态进行电压、电流、阻抗和相位等实时检测，为半导体工艺装备提供稳定的过程监控及故障诊断。ESC直流电源是静电卡盘 （ESC）专用电源，具有最高达15kV （±7.5kV） 的电压输出，包括双极型和单极型，可适配各类静电卡盘，为晶圆吸附提供稳定静电场。
    • 射频电源
      射频电源.png
      射频电源
      射频电源是一种能够产生一定频率正弦波的电源设备，其核心功能是通过直流供电单元、射频功率单元、测量模块、控制模块、通 讯接口等电路系统，将工厂端电能转换为高频电能，并且功率/频率可得到精确控制。
    • 匹配器
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      匹配器
      匹配器用于匹配射频电源与反应腔室间的阻抗，实现射频功率最大化传输到反应腔室中。匹配器可基于实际应用场景进行定制化开发，能够在不同频率、不同功率范围实现快速、准确及稳定的阻抗匹配。
    • 直流/低频电源
      直流电源.png
      直流/低频电源
      直流/低频电源是指通过能量转换机制将交流电或其他能量形式转化为直流/低频电能的电源设备。ESC直流电源是一款专用于半导 体领域的高压产品，可适配单极/双极，库伦型/JR型等静电卡盘，为晶圆吸附提供稳定的静电场；RPS电源是一款专用于半导体领 域的高稳定性低频电源，广泛应用于氧化物、氮化物等清洗工艺设备，为其维持稳定的等离子体。
  • 流体控制
    流体控制
    流体控制是利用各种控制单元来精确控制流体流量、压力、真空度等关键指标，以满足工业领域的特殊工艺需求。华丞电子深耕流体控制领域40余年，目前已形成气体质量流量控制器、压力控制器、真空规、真空压力开关、压力传感器、压差计、液体压力传感器、汽化器、气路系统等系列产品。这些产品在集成电路、新能源光伏、真空镀膜、食品、医疗及科学研究等众多领域都发挥着至关重要的作用。
    • 气体流量测量控制
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      气体流量测量控制
      气体质量流量控制器(MFC)属于一种工业自动化仪表。华丞电子自1979年研制出第一款热式模拟气体质量流量控制器以来，持续迭代创新，不断优化性能，相继推出了热式数字气体质量流量控制器和压力式数字气体质量流量控制器，产品具有高精度、高可靠性、低零漂、耐腐蚀、快速响应等优势。目前产品种类多达50 余种，涵盖普通型、大量程型、高精度型、快响应型、耐压型、金属密封型等，已成为高端制造领域不可或缺的核心零部件之一。
    • 真空测量控制
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      真空测量控制
      华丞电子不断拓宽产品线，基于气体质量流量控制器先进技术研发经验，成功研发生产了气体压力控制器、电容薄膜真空规、压力变送器、真空压力开关、蝶阀、摆阀等精密控制零部件，产品各项技术指标均严格执行SEMI标准，具有高精度、高稳定性、快速响应、重复性强等优势，为高端制造领域提供稳定真空测控产品，确保生产过程的稳定性和质量的一致性。
    • 液体流量测量控制
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      液体流量测量控制
      华丞电子拥有种类多样的液体控制类产品，涵盖了液体流动、温度、液位、计量以及控制等多个方面，包括液体压力传感器、液体加热器、液体流量控制器、液体流量计、汽化器以及蒸汽过滤器等产品。通过应用各种控制元件、传感器和控制系统，实现对液体的精确控制。
    • 气路系统
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      气路系统
      作为精密流体控制的集成者，华丞电子充分发挥零部件平台整合优势，精研客户需求，将气路设计能力、精密加工能力和系统测试能力深度融合。通过将气体质量流量控制器、隔膜阀、调压阀、压力传感器、过滤器等核心零部件优化配置，可实现对多种工艺气体的压力调节、过滤、流量控制、混流等功能，为客户提供定制化VCR、IGS和卡套型气路系统整体解决方案。凭借多年流体控制研发生产经验，并依托自有特气实验室等优势，华丞电子气体系统具备高密封性、高精度、高集成、安全可靠度高等优点。
  • 晶圆传输
    晶圆传输
    晶圆传输是通过智能运动控制系统实现晶圆的可靠传输和存储，通过优异的调度管理、颗粒物控制、振动抑制等技术实现晶圆传送的高良率控制。华丞电子研发生产的晶圆传输产品可实现晶圆单片、批次的大气和真空稳定传输控制，目前研发制造的清洗设备晶圆传输系统（WTS）、立式炉管设备晶圆储存系统（Stocker）、刻蚀与沉积设备晶圆传输平台（WTM）、刻蚀与沉积设备前端模块（EFEM）已在半导体和泛半导体领域的多家客户端实现量产交付。
    • 晶圆盒传送存储系统 Stocker
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      晶圆盒传送存储系统 Stocker
      晶圆盒传送存储系统Stocker设备主要应用于半导体领域，在立式炉生产工艺中对晶圆盒FOUP起到缓存作用。Stocker设备有效解决了立式炉工艺与上下游工艺之间供应量及节拍不匹配的问题，同时也实现了全自动晶圆盒FOUP的开关功能，避免了人为干预产生的影响，保证了立式炉生产工艺的洁净环境，提高了产品质量。
    • 晶圆传输系统（WTS）
      WTS(1735113710877).png
      晶圆传输系统（WTS）
      通过与客户天车OHT系统交互实现晶圆盒Foup的进出，通过FOUP机械手移载实现在不同工艺制程Stage之间互传移载和存储，通过内部Loadport实现Foup的开盒和Mapping，通过WTS实现Wafer的移载、合片和分片，通过三个位置的Mapping实现Wafer的状态确认和数据比对，通过固定BF实现50P Wafer缓存，通过PTZ实现与清洗工艺Robot的交接。顶部EFU实现机台微洁净环境的保持，顶部离子棒实现传输路径的静电残留去除。
    • 设备前端模块（EFEM）
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      设备前端模块（EFEM）
      EFEM设备即设备前端模块(Equipment Front End Module)。EFEM设备能够与各种半导体工艺设备（刻蚀，PVD，CVD，清洗设备等）实现无缝连接，保证晶圆在洁净环境下的自动化传输和对晶圆的高效管理。EFEM设备内部带有多重互锁保护，保障晶圆传输过程中，人员与设备的安全。
    • 晶圆传输平台（WTM）
      75d6e7ca-75d8-4d49-98e2-f3775b721fd8-恢复的(1733290740256).png
      晶圆传输平台（WTM）
      晶圆传输平台是半导体工艺设备不可或缺的构成部分，主要实现晶圆在洁净环境以及真空环境下在不同模块下的自动化传输，晶圆传输平台可以快速在大气及真空状态进行切换，满足系统工艺需求。该设备通常根据客户需求定制开发，满足客户工艺传片的需求。

半导体领域

PC300 压力控制器

PC300 压力控制器

半导体-集成电路

半导体-先进封装

半导体显示

半导体照明

半导体-微机电系统

功率半导体

化合物半导体

PC300 压力控制器是带有完整流量计功能的压力控制器，主要应用于半导体领域，例如在晶圆背面冷却系统中，用来控制硅片背面的冷却气体的压力，如氦气、氮气、氩气等特殊气体。
双输出匹配器

双输出匹配器

半导体-集成电路

半导体-先进封装

半导体显示

半导体照明

半导体-微机电系统

功率半导体

化合物半导体

双输出匹配器广泛应用于刻蚀，薄膜沉积等半导体设备中，用于匹配等离子体设备中射频电源与反应腔室的阻抗，实现射频功率最大化传输到反应腔室中。
双频匹配器

双频匹配器

半导体-集成电路

半导体-先进封装

半导体显示

半导体照明

半导体-微机电系统

功率半导体

化合物半导体

双频匹配器广泛应用于刻蚀、薄膜沉积等半导体设备中，支持双频同时加载馈入，具有双频隔离度高、匹配速度快、匹配精度高、产品集成度高等优点，可在单个频率或多个频率组合下进行稳定匹配。
PC100 压力控制器

PC100 压力控制器

半导体-显示

半导体-集成电路

半导体-照明

清洁能源-光伏

PC100 压力控制器是数字型压力控制产品，为气体压力的控制、测量提供了高准确度及高可靠性。可同时支持数字信号和0~5V模拟信号，使用单电源供电。另外，标准开放的通讯协议可为客户自行开发控制、采集软件提供便利。
PC200 压力控制器

PC200 压力控制器

半导体-集成电路

半导体-显示

生命科学-分析仪器

科学研究-实验器材

PC200 压力控制器用于对气体的压力进行精密控制和测量。主要应用于与半导体集成电路工艺、特种材料、化学工业、石油工业、医药、环保和真空等领域。
PC210 压力控制器

PC210 压力控制器

半导体-集成电路

半导体-显示

生命科学-分析仪器

科学研究-实验器材

PC210 压力控制器是数字型压力控制产品，为气体压力的控制、测量提供了高准确度及高可靠性。模拟型产品可同时支持数字信号和模拟信号，可使用双电源±15VDC 供电。
EPC100 反应腔室压力控制器

EPC100 反应腔室压力控制器

半导体/集成电路

半导体/先进封装

功率半导体

化合物半导体

清洁能源/光伏

科学研究/实验器材

反应腔室压力控制器(Exhaust Pressure Controller，简称 EPC)用于对气体的压力进行精密控制和测量。它们在半导体集成电路工艺、特种材料、化学工业、石油工业、医药、环保和真空等多种领域的科研和生产中有着重要的应用。
BV100 蝶阀

BV100 蝶阀

半导体-集成电路

半导体显示

BV100 蝶阀广泛应用于半导体，平板显示，晶体硅太阳能和工业制程中，用于控制腔室的下游压力。
BV200 蝶阀

BV200 蝶阀

半导体-集成电路

功率半导体

BV200 蝶阀是数字型压力控制类阀门产品，为气体压力的控制提供了高准确度及高可靠性。该型产品支持数字信号控制，使用单电源+24 VDC供电。
BV300 蝶阀

BV300 蝶阀

半导体-集成电路

半导体-先进封装

半导体显示

半导体照明

半导体-微机电系统

功率半导体

化合物半导体

BV300 蝶阀广泛应用于半导体、平板显示、晶体硅太阳能和工业制程中，用于控制腔室的下游压力，可定制化解决苛刻工艺条件下快速控压需求。
PS100 电容薄膜真空规

PS100 电容薄膜真空规

半导体-集成电路

清洁能源-光伏

PS100 电容薄膜真空规具有测量精度高、重复性好等优点，被广泛应用在半导体、光伏、真空、航空航天等高端装备制造领域，本产品以超薄膜片为感压元件，可精确测量工艺腔室或其它真空环境下的气体压力。
VG200 电容薄膜真空规

VG200 电容薄膜真空规

半导体-集成电路

清洁能源-光伏

特种工业-真空镀膜

生命科学-分析仪器

科学研究-实验器材

VG200 电容薄膜真空规具有测量精度高、重复性好等优点。被广泛应用在半导体、光伏、真空、航空航天等高端装备制造领域，本产品以超薄膜片为感压元件，可精确测量工艺腔室或其它真空环境下的气体压力。
VS100 真空压力开关

VS100 真空压力开关

半导体-集成电路

半导体-先进封装

半导体照明

功率半导体

化合物半导体

VS100 真空压力开关利用压阻式压力传感器，来检测介质的压力变化，与预设的压力动作点进行比较，将压力转换为开关量信号。应用于集成电路、先进封装、半导体照明、功率半导体、化合物半导体领域。
PT100 压力变送器

PT100 压力变送器

半导体-集成电路

半导体-先进封装

半导体照明

功率半导体

化合物半导体

PT100 压力变送器利用压阻式压力传感器，来检测介质的压力变化，并将压力转换为电信号输出；可测量气路盘、工艺腔和传输腔等位置的压力变化；广泛应用于集成电路、先进封装、半导体照明、功率半导体、化合物半导体等领域。
CVS100 真空开关

CVS100 真空开关

半导体-集成电路

特种工业-石油化工

生命科学-医疗健康

科学研究-实验器材

CVS100 真空开关为真空设备、大气开关和真空压力过程提供准确可靠的保护。应用于半导体加工工具、真空泵、压缩机、鼓风机、医疗设备和机床等。
DP100 压差计

DP100 压差计

半导体-集成电路

特种工业-真空镀膜

生命科学-医疗健康

科学研究-实验器材

DP100 压差计具有极高的准确性和重复性，可用于各种不同应用的工业和电子控制系统中，本产品以超薄膜片为感压元件，可精确测量参考腔室和测试腔室之间的气体压力差值。
单输出匹配器

单输出匹配器

半导体-集成电路

半导体-先进封装

半导体显示

半导体照明

半导体-微机电系统

功率半导体

功率半导体

单输出匹配器广泛应用于刻蚀、薄膜沉积等半导体设备中，具有匹配范围宽、匹配速度快、匹配精度高等优点，可提供VDC偏压和输出阻抗等信号，适用于多种工艺。
CS100 热式数字气体质量流量控制器

CS100 热式数字气体质量流量控制器

清洁能源—光伏

特种工业—石油化工

特种工业—光纤

特种工业—真空镀膜

特种工业—热处理

生命科学—环境保护

生命科学—食品工业

生命科学—医疗健康

生命科学—分析仪器

科学研究—实验器材

CS100产品是基于华丞电子CS系列产品技术平台开发，在拥有恒功率传感器技术，数字传感器平衡技术，VCP线控制技术的基础上，采用客户定制化设计，客户可根据需要选用符合自身需求的产品，同时其独创的客户零点补唯功能(CGC)，能够解决由于客户地线连接导致的MFC精度不准问题，使产品更好的适应客户环境。
CS200 热式数字气体质量流量控制器

CS200 热式数字气体质量流量控制器

半导体—集成电路

半导体照明

清洁能源—光伏

清洁能源—氢能燃料电池

特种工业—石油化工

特种工业—光纤

特种工业—真空镀膜

特种工业—热处理

生命科学—环境保护

生命科学—食品工业

生命科学—生物工程

生命科学—医疗健康

生命科学—分析仪器

科学研究—实验器材

CS200 热式数字气体质量流量控制器采用先进传感器和温度补偿技术，因此产品精度可以达到设定值1%以内，并且低温度系数可以保证产品适应不同的环境温度。同时，产品采用高速控制算法使整个流量控制器的响应时间方面更加岀色。
CS210 热式数字气体质量流量控制器

CS210 热式数字气体质量流量控制器

半导体照明

特种工业—石油化工

特种工业—光纤

特种工业—真空镀膜

特种工业—热处理

生命科学—环境保护

生命科学—食品工业

生命科学—生物工程

生命科学—医疗健康

生命科学—分析仪器

科学研究—实验器材

CS210 热式数字气体质量流量控制器是一款数模兼容的热式原理产品，可广泛应用于光伏、燃料电池、真空等行业，用于控制工艺制程的气体流量，具有高精度、高稳定性、低零漂等特点。
CS230A 热式数字气体质量流量控制器

CS230A 热式数字气体质量流量控制器

清洁能源—光伏

特种工业—热处理

生命科学—环境保护

生命科学—食品工业

CS230A产品是华丞电子研发的中大流量产品,最高流量可达300SLM氮气,并可实现数字/模拟控制模式;产品采用高速控制算法使整个流量计的响应时间方面更加出色,最多2秒的高速响应将使用过程中产生的系统误差最小化,流量更加精准,产品具备低零漂、低温漂性能,产品支持 DeviceNet,RS485通讯协议。
13MHz连续波射频电源

13MHz连续波射频电源

半导体-集成电路

半导体-先进封装

半导体显示

半导体照明

半导体-微机电系统

功率半导体

化合物半导体

射频电源是一种能够产生固定频率正弦波或脉冲电压的电源设备，其工作频率位于射频范围内，并具有一定的功率输出能力。13MHz BG系列射频电源，工作频率13.56MHz，可输出额定功率范围1000W~5500W。
DS312 压力式气体质量流量控制器

DS312 压力式气体质量流量控制器

半导体—集成电路

半导体—微机电系统

功率半导体

化合物半导体

半导体—先进封装

半导体显示

半导体照明

DS312 是一款控制精度高、相应速度快的质量流量控制器（MFC），主要用于刻蚀机等对机器性能要求高的半导体机台。
D07-7 热式模拟气体质量流量控制器

D07-7 热式模拟气体质量流量控制器

特种工业—石油化工

特种工业—光纤

特种工业—真空镀膜

特种工业—热处理

生命科学—环境保护

生命科学—食品工业

生命科学—生物工程

生命科学—医疗健康

生命科学—分析仪器

科学研究—实验器材

D07-7 热式气体质量流量控制器/流量计根据毛细管传热温差量热法原理，设置模拟量程，不因温度和压力的波动而失准，无需进行温度、压力补偿即可实现对各种气体精准测量和控制。D07-7系列产品为华丞电子基本款产品，具有稳定性高、重复性好、易维护等特点。
D07-9 热式模拟气体质量流量控制器

D07-9 热式模拟气体质量流量控制器

清洁能源—光伏

清洁能源—氢能燃料电池

特种工业—光纤

特种工业—真空镀膜

特种工业—热处理

生命科学—环境保护

生命科学—食品工业

生命科学—生物工程

生命科学—医疗健康

生命科学—分析仪器

科学研究—实验器材

D07-9 热式气体质量流量控制器/流量计根据毛细管传热温差量热法原理，设置模拟量程，不因温度和压力的波动而失准，无需进行温度、压力补偿即可实现对各种气体精准测量和控制。D07-9系列产品是华丞电子研发高精度、快速响应的模拟产品。
D07-11 热式模拟气体质量流量控制器

D07-11 热式模拟气体质量流量控制器

特种工业—石油化工

特种工业—光纤

特种工业—真空镀膜

特种工业—热处理

生命科学—环境保护

生命科学—食品工业

生命科学—生物工程 生命

科学—医疗健康

生命科学—分析仪器

科学研究—实验器材

D07-11 热式气体质量流量控制器/流量计根据毛细管传热温差量热法原理，设置模拟量程，不因温度和压力的波动而失准，无需进行温度、压力补偿即可实现对各种气体精准测量和控制。D07-11系列产品为华丞电子研发的高压产品，最高耐压10MPa。
D07-19 热式模拟气体质量流量控制器

D07-19 热式模拟气体质量流量控制器

特种工业—石油化工

特种工业—光纤

特种工业—真空镀膜

特种工业—热处理

生命科学—环境保护

生命科学—食品工业

生命科学—生物工程

生命科学—医疗健康

生命科学—分析仪器

科学研究—实验器材

D07-19 热式气体质量流量控制器/流量计根据毛细管传热温差量热法原理，设置模拟量程，不因温度和压力的波动而失准，无需进行温度、压力补偿即可实现对各种气体精准测量和控制。D07-19系列产品具有稳定性高、易维护等特点。
D07-23 热式模拟气体质量流量控制器

D07-23 热式模拟气体质量流量控制器

清洁能源—光伏

清洁能源—氢能燃料电池

特种工业—光纤

特种工业—真空镀膜

特种工业—热处理

生命科学—环境保护

生命科学—食品工业

生命科学—生物工程

生命科学—医疗健康

生命科学—分析仪器

科学研究—实验器材

D07-23 热式气体质量流量控制器/流量计根据毛细管传热温差量热法原理，设置模拟量程，不因温度和压力的波动而失准，无需进行温度、压力补偿即可实现对各种气体精准测量和控制。D07-23系列产品为华丞电子研发制造的大流量模拟控制产品，具有精度高、易维护、稳定性高等特点，支持零点自动校准功能。
D07-60B 热式模拟气体质量流量控制器

D07-60B 热式模拟气体质量流量控制器

清洁能源—光伏

清洁能源—氢能燃料电池

特种工业—光纤

特种工业—真空镀膜

特种工业—热处理

生命科学—环境保护

生命科学—食品工业

生命科学—生物工程

生命科学—医疗健康

生命科学—分析仪器

科学研究—实验器材

D07-60B 热式气体质量流量控制器/流量计采用毛细管传热温差量热法原理，设置模拟量程，不因温度和压力的波动而失准，无需进行温度、压力补偿即可实现对各种气体精准测量和控制。D07-60系列产品为华丞电子研发制造的超大流量模拟产品，最大流量支持2000SLM，具有稳定性高、易维护等特点。
IGS气路系统

IGS气路系统

半导体照明

半导体—集成电路

IGS气路系统是专为半导体领域研发的新型气路输送解决方案。它采用气体直路方向运输设计，体积小巧，便于安装与维护，满足零部件小型化需求。华丞电子凭借多年研发经验，赋予其高密封性、高精度和高集成度特点，并依托特殊气体实验室，确保特殊气体控制的高准确性，这也是未来IGS气路系统的发展方向。
VCR气路系统

VCR气路系统

半导体—集成电路

半导体照明

清洁能源—光伏

特种工业—光纤

特种工业—真空镀膜

生命科学—分析仪器

科学研究—实验器材

VCR气路系统主要采用VCR密封形式，整体气路系统由质量流量控制器、隔膜阀、调压阀、压力传感器、过滤器及不锈钢管件接头等部件组合而成，能够根据客户需求提供多种解决方案。
CS312 热式数字气体质量流量控制器

CS312 热式数字气体质量流量控制器

半导体—集成电路

半导体照明

特种工业—真空镀膜

科学研究—实验器材

CS312 质量流量控制器采用新型低零漂传感器和温度补偿技术，产品精度可达到设 定值1%以内，低温度系数可保证产品适应不同的环境温度，可广泛应用于半导体、 光伏、平板显示等行业的工艺设备中，精确控制工艺气体流量，具有低零漂、高精 度、快响应、耐腐蚀等特点。
CS330 热式数字气体质量流量控制器

CS330 热式数字气体质量流量控制器

半导体—集成电路

清洁能源—光伏

特种工业—真空镀膜

科学研究—实验器材

CS330C、D型 MFC是全金属密封大流量的数字型产品，为气体质量流量的控制、 测量提供了高准确度及高可靠性。该型产品支持提供数字信号，0~5V模拟信号， 4~20mA模拟信号，可以使用双电源（±8~±16VDC）或单电源(+14~+28 VDC)。
2MHz 脉冲射频电源

2MHz 脉冲射频电源

半导体-集成电路

半导体-先进封装

半导体显示

半导体-微机电系统

功率半导体

化合物半导体

2MHz BGP系列射频电源，为脉冲射频电源，工作频率范围在1.765 MHz～2.165 MHz 具备选频功能，50Ω负载下，满足输出2500W、5000W额定功率，功率精度≤±1%，由供电部分、射频部分和控制部分组成，散热方式为水冷和风冷。
RPS电源（BRT系列）产品

RPS电源（BRT系列）产品

半导体-集成电路

半导体-先进封装

半导体显示

半导体照明

半导体-微机电系统

功率半导体

化合物半导体

RPS电源是一款小型低频电源，专用于半导体领域，在氧化物、氮化物清洗工艺中有着广泛的应用。RPS电源为模拟系统控制，可通过自调频系统进行功率输出调节，输出功率以电流反馈的形式进行采集。电源自带功率输出对插接口，可稳定输出48KHz-92KHz的高压正弦波，并维持等离子体的稳定性。
MX700 晶圆传输平台

MX700 晶圆传输平台

半导体显示

半导体照明

功率半导体

晶圆传输平台是半导体工艺设备不可或缺的构成部分，主要实现晶圆在洁净环境以及真空环境下在不同模块下的自动化传输，晶圆传输平台可以快速在大气及真空状态进行切换，满足系统工艺需求。 该设备主要由用于实现晶圆在工艺过程中在不同工艺模块之间的传输。本系统包括前段用于实现上料功能，存放片盒（Cassette，用于承装6寸或8寸的晶圆）的VCE（Vacuum Cassette Elevator，真空片盒升降机），平台真空腔室，真空机械手（Vacuum Robot），真空对准器（Aligner），Cooler冷却组件，晶圆分离组件（WSM）等部件构成。用于实现6吋/8吋晶圆的传输。设备内部带有多重互锁保护，保障晶圆传输过程中，人员与设备的安全。
E300-3T 3工位设备前段模块

E300-3T 3工位设备前段模块

半导体—集成电路

半导体—先进封装

EFEM设备前端模块(Equipment Front End Module)能够与各种半导体工艺设备（刻蚀，PVD，CVD，清洗设备等）实现无缝连接，在高洁净环境下，EFEM设备通过高精度机械手实现晶圆在晶圆装载系统与工艺模块之间的自动化传输。晶圆装载系统（Load Port）、晶圆运输机器人（Robot）、晶圆对准器（Aligner）是最核心的三大部件。EFEM设备内部带有多重互锁保护，保障晶圆传输过程中，人员与设备的安全。3工位EFEM设备具备3个Load Port，是一种常用的EFEM设备。
300mm (氮气) 晶圆盒传送存储系统

300mm (氮气) 晶圆盒传送存储系统

半导体—集成电路

半导体—先进封装

半导体显示

功率半导体

化合物半导体

光伏

300mm (氮气) 晶圆盒传送存储系统主要由晶圆盒FOUP载入系统LoadPort、晶圆盒FOUP缓存架Shelf、机械手Robot、全密封式FIMS、氮气吹扫系统N2 Purge、气动系统以及电控系统等部分组成。实现晶圆盒FOUP的载入载出、暂存、氮气吹扫和晶圆盒FOUP开关盒等功能。该产品中晶圆盒FOUP载入系统分为A/B两个工位，用于实现晶圆盒FOUP的载入载出，晶圆盒FOUP缓存架共有18个工位，可以实现多个晶圆盒FOUP的存储，在存储过程中氮气吹扫系统N2 Purge功能开启，可以有效降低晶圆盒FOUP内的含氧量及湿度。机械手Robot用于在各工位之间的取放和搬运。全密封FIMS可以实现晶圆盒FOUP开关盒功能并保证Stocker与工艺设备之间的密封要求。
300mm晶圆盒传送存储系统

300mm晶圆盒传送存储系统

半导体—集成电路

半导体—先进封装

半导体显示

功率半导体

化合物半导体

光伏

300mm 晶圆盒传送存储系统主要由晶圆盒FOUP载入系统LoadPort、晶圆盒缓存架Shelf、机械手Robot、全密封式FIMS、气动系统以及电控系统等部分组成。实现晶圆盒FOUP的载入载出、暂存和晶圆盒FOUP开关等功能。该产品中晶圆盒FOUP载入系统分为A/B两个工位，用于实现晶圆盒FOUP的载入载出，晶圆盒FOUP缓存架共有18个工位，可以实现多个FOUP的存储。机械手Robot用于在各工位之间的取放和搬运。全密封FIMS可以实现晶圆盒FOUP开关盒功能并保证Stocker与工艺设备之间的密封要求。
LPT100 液体压力传感器

LPT100 液体压力传感器

半导体-集成电路

LPT100 液体压力传感器是一款为半导体技术发展需求而研制的高精度耐腐蚀的产品，主要应用于集成电路湿法制程中的CMP、清洗等设备上。
Grail B1203A 晶圆传输系统

Grail B1203A 晶圆传输系统

半导体—集成电路

半导体—先进封装

功率半导体

化合物半导体

Grail B1203A 晶圆传输系统通过与客户天车OHT系统交互实现晶圆盒Foup的进出，通过FOUP机械手移载实现在不同工艺制程Stage之间互传移载和存储，通过内部Loadport实现Foup的开盒和Mapping，通过WTS实现Wafer的移载、合片和分片，通过三个位置的Mapping实现Wafer的状态确认和数据比对，通过固定BF实现50P Wafer缓存，通过PTZ实现与清洗工艺Robot的交接。顶部EFU实现机台微洁净环境的保持，顶部离子棒实现传输路径的静电残留去除。
FV100 汽化器

FV100 汽化器

半导体-集成电路

FV100 汽化器是一种将前驱体液体雾化形成液滴气溶胶，然后流入高效热交换器形成蒸汽设备。以提供基本上不含颗粒污染物的高纯度气体或蒸汽混合气，用于半导体薄膜沉积和工业涂层应用的CVD、PECVD、ALD薄膜沉积。
D07-60J 热式模拟气体质量流量控制器

D07-60J 热式模拟气体质量流量控制器

清洁能源—光伏

清洁能源—氢能燃料电池

特种工业—光纤

特种工业—真空镀膜

特种工业—热处理

生命科学—环境保护

生命科学—食品工业

生命科学—生物工程

生命科学—医疗健康

生命科学—分析仪器

科学研究—实验器材

D07-60J 热式气体质量流量控制器/流量计根据毛细管传热温差量热法原理，设置模拟量程，不因温度和压力的波动而失准，无需进行温度、压力补偿即可实现对各种气体精准测量和控制。D07-60系列产品为华丞电子研发制造的超大流量模拟产品，最大流量支持2000SLM，具有稳定性高、易维护等特点。D07-60J产品支持零点自动校准功能。
CS316 热式数字气体质量流量控制器

CS316 热式数字气体质量流量控制器

半导体—集成电路

清洁能源—光伏

CS316是专为关键半导体制造工艺设计的压力不敏感型质量流量控制器，采用了压 力补偿技术，减少前端压力变化对瞬时流量的影响，从而保证了产品的稳定性和准 确性。产品各项技术指标均严格按照SEMI标准，支持W型，C型IGS气路系统。
单极系列 ESC直流电源

单极系列 ESC直流电源

半导体-集成电路

半导体-先进封装

半导体显示

半导体照明

ESC DC Power即ESC直流电源，是一种专用于静电卡盘（ESC）的直流高压静电电源，本产品为单极输出电源，可提供正/负直流电压，通过专用电缆和滤波电路，连接到静电卡盘直流电极上，为静电卡盘提供产生吸力的直流高压。
双极系列 ESC直流电源

双极系列 ESC直流电源

半导体-集成电路

半导体-先进封装

半导体显示

半导体照明

ESC DC Power即ESC直流电源，是一种专用于静电卡盘（ESC）的直流高压静电电源，本产品为双极输出电源，可同时提供正和负直流电压，通过专用电缆和滤波电路，连接到静电卡盘直流电极上，为静电卡盘提供产生吸力的直流高压。
13MHz脉冲波射频电源

13MHz脉冲波射频电源

半导体-集成电路

半导体-先进封装

半导体显示

半导体照明

半导体-微机电系统

功率半导体

化合物半导体

射频电源是一种能够产生固定频率正弦波或脉冲电压的电源设备，其工作频率位于射频范围内，并具有一定的功率输出能力。13MHz BGP系列射频电源，工作频率13.56MHz，可输出额定功率范围1500W~6000W。
2MHz连续波射频电源

2MHz连续波射频电源

半导体-集成电路

半导体-先进封装

半导体显示

半导体照明

半导体-微机电系统

功率半导体

化合物半导体

2MHz BG系列射频电源，为连续波射频电源，工作频率范围在1.765 MHz～2.165 MHz 具备选频功能，50Ω负载下，满足输出1250W、1500W、3000W额定功率，功率精度≤±1%，由供电部分、射频部分和控制部分组成，散热方式为水冷和风冷。
卡套气路系统

卡套气路系统

清洁能源-光伏

清洁能源—锂电

卡套气路系统可根据客户需求提供定制化气体输送系统，包括电磁阀、截止阀、干燥器、过滤器、接头等必要部件。
VD-03扩散器

VD-03扩散器

半导体—集成电路

半导体照明

VD-03扩散器采用粉末冶金工艺制备的金属多孔材料滤芯。滤芯在烧结过程中形成的大量微米级孔道能实现气体匀化和层流化，保证气体的通过性，达到较短的Vent-up时间。同时，这种微观结构强化了对亚微米颗粒吸附、扩散等过滤效应，具有过滤最小粒径0.0015μm颗粒的能力。扩散器壳体可以选用316L VV材料并进行EP处理，扩散器耐腐蚀性得到进一步提高。独特的焊接工艺保证了多孔材料滤芯与壳体的牢固结合，使扩散器整体具有高强度。
射频控制
流体控制
晶圆传输
射频控制
双输出匹配器
半导体-集成电路
半导体-先进封装
半导体显示
半导体照明
半导体-微机电系统
功率半导体
化合物半导体
双输出匹配器广泛应用于刻蚀，薄膜沉积等半导体设备中，用于匹配等离子体设备中射频电源与反应腔室的阻抗，实现射频功率最大化传输到反应腔室中。
双频匹配器
半导体-集成电路
半导体-先进封装
半导体显示
半导体照明
半导体-微机电系统
功率半导体
化合物半导体
双频匹配器广泛应用于刻蚀、薄膜沉积等半导体设备中，支持双频同时加载馈入，具有双频隔离度高、匹配速度快、匹配精度高、产品集成度高等优点，可在单个频率或多个频率组合下进行稳定匹配。
单输出匹配器
半导体-集成电路
半导体-先进封装
半导体显示
半导体照明
半导体-微机电系统
功率半导体
功率半导体
单输出匹配器广泛应用于刻蚀、薄膜沉积等半导体设备中，具有匹配范围宽、匹配速度快、匹配精度高等优点，可提供VDC偏压和输出阻抗等信号，适用于多种工艺。
13MHz连续波射频电源
半导体-集成电路
半导体-先进封装
半导体显示
半导体照明
半导体-微机电系统
功率半导体
化合物半导体
射频电源是一种能够产生固定频率正弦波或脉冲电压的电源设备，其工作频率位于射频范围内，并具有一定的功率输出能力。13MHz BG系列射频电源，工作频率13.56MHz，可输出额定功率范围1000W~5500W。
2MHz 脉冲射频电源
半导体-集成电路
半导体-先进封装
半导体显示
半导体-微机电系统
功率半导体
化合物半导体
2MHz BGP系列射频电源，为脉冲射频电源，工作频率范围在1.765 MHz～2.165 MHz 具备选频功能，50Ω负载下，满足输出2500W、5000W额定功率，功率精度≤±1%，由供电部分、射频部分和控制部分组成，散热方式为水冷和风冷。
RPS电源（BRT系列）产品
半导体-集成电路
半导体-先进封装
半导体显示
半导体照明
半导体-微机电系统
功率半导体
化合物半导体
RPS电源是一款小型低频电源，专用于半导体领域，在氧化物、氮化物清洗工艺中有着广泛的应用。RPS电源为模拟系统控制，可通过自调频系统进行功率输出调节，输出功率以电流反馈的形式进行采集。电源自带功率输出对插接口，可稳定输出48KHz-92KHz的高压正弦波，并维持等离子体的稳定性。
单极系列 ESC直流电源
半导体-集成电路
半导体-先进封装
半导体显示
半导体照明
ESC DC Power即ESC直流电源，是一种专用于静电卡盘（ESC）的直流高压静电电源，本产品为单极输出电源，可提供正/负直流电压，通过专用电缆和滤波电路，连接到静电卡盘直流电极上，为静电卡盘提供产生吸力的直流高压。
双极系列 ESC直流电源
半导体-集成电路
半导体-先进封装
半导体显示
半导体照明
ESC DC Power即ESC直流电源，是一种专用于静电卡盘（ESC）的直流高压静电电源，本产品为双极输出电源，可同时提供正和负直流电压，通过专用电缆和滤波电路，连接到静电卡盘直流电极上，为静电卡盘提供产生吸力的直流高压。
13MHz脉冲波射频电源
半导体-集成电路
半导体-先进封装
半导体显示
半导体照明
半导体-微机电系统
功率半导体
化合物半导体
射频电源是一种能够产生固定频率正弦波或脉冲电压的电源设备，其工作频率位于射频范围内，并具有一定的功率输出能力。13MHz BGP系列射频电源，工作频率13.56MHz，可输出额定功率范围1500W~6000W。
2MHz连续波射频电源
半导体-集成电路
半导体-先进封装
半导体显示
半导体照明
半导体-微机电系统
功率半导体
化合物半导体
2MHz BG系列射频电源，为连续波射频电源，工作频率范围在1.765 MHz～2.165 MHz 具备选频功能，50Ω负载下，满足输出1250W、1500W、3000W额定功率，功率精度≤±1%，由供电部分、射频部分和控制部分组成，散热方式为水冷和风冷。
流体控制
PC300 压力控制器
半导体-集成电路
半导体-先进封装
半导体显示
半导体照明
半导体-微机电系统
功率半导体
化合物半导体
PC300 压力控制器是带有完整流量计功能的压力控制器，主要应用于半导体领域，例如在晶圆背面冷却系统中，用来控制硅片背面的冷却气体的压力，如氦气、氮气、氩气等特殊气体。
PC100 压力控制器
半导体-显示
半导体-集成电路
半导体-照明
清洁能源-光伏
PC100 压力控制器是数字型压力控制产品，为气体压力的控制、测量提供了高准确度及高可靠性。可同时支持数字信号和0~5V模拟信号，使用单电源供电。另外，标准开放的通讯协议可为客户自行开发控制、采集软件提供便利。
PC200 压力控制器
半导体-集成电路
半导体-显示
生命科学-分析仪器
科学研究-实验器材
PC200 压力控制器用于对气体的压力进行精密控制和测量。主要应用于与半导体集成电路工艺、特种材料、化学工业、石油工业、医药、环保和真空等领域。
PC210 压力控制器
半导体-集成电路
半导体-显示
生命科学-分析仪器
科学研究-实验器材
PC210 压力控制器是数字型压力控制产品，为气体压力的控制、测量提供了高准确度及高可靠性。模拟型产品可同时支持数字信号和模拟信号，可使用双电源±15VDC 供电。
EPC100 反应腔室压力控制器
半导体/集成电路
半导体/先进封装
功率半导体
化合物半导体
清洁能源/光伏
科学研究/实验器材
反应腔室压力控制器(Exhaust Pressure Controller，简称 EPC)用于对气体的压力进行精密控制和测量。它们在半导体集成电路工艺、特种材料、化学工业、石油工业、医药、环保和真空等多种领域的科研和生产中有着重要的应用。
BV100 蝶阀
半导体-集成电路
半导体显示
BV100 蝶阀广泛应用于半导体，平板显示，晶体硅太阳能和工业制程中，用于控制腔室的下游压力。
BV200 蝶阀
半导体-集成电路
功率半导体
BV200 蝶阀是数字型压力控制类阀门产品，为气体压力的控制提供了高准确度及高可靠性。该型产品支持数字信号控制，使用单电源+24 VDC供电。
BV300 蝶阀
半导体-集成电路
半导体-先进封装
半导体显示
半导体照明
半导体-微机电系统
功率半导体
化合物半导体
BV300 蝶阀广泛应用于半导体、平板显示、晶体硅太阳能和工业制程中，用于控制腔室的下游压力，可定制化解决苛刻工艺条件下快速控压需求。
PS100 电容薄膜真空规
半导体-集成电路
清洁能源-光伏
PS100 电容薄膜真空规具有测量精度高、重复性好等优点，被广泛应用在半导体、光伏、真空、航空航天等高端装备制造领域，本产品以超薄膜片为感压元件，可精确测量工艺腔室或其它真空环境下的气体压力。
VG200 电容薄膜真空规
半导体-集成电路
清洁能源-光伏
特种工业-真空镀膜
生命科学-分析仪器
科学研究-实验器材
VG200 电容薄膜真空规具有测量精度高、重复性好等优点。被广泛应用在半导体、光伏、真空、航空航天等高端装备制造领域，本产品以超薄膜片为感压元件，可精确测量工艺腔室或其它真空环境下的气体压力。
VS100 真空压力开关
半导体-集成电路
半导体-先进封装
半导体照明
功率半导体
化合物半导体
VS100 真空压力开关利用压阻式压力传感器，来检测介质的压力变化，与预设的压力动作点进行比较，将压力转换为开关量信号。应用于集成电路、先进封装、半导体照明、功率半导体、化合物半导体领域。
PT100 压力变送器
半导体-集成电路
半导体-先进封装
半导体照明
功率半导体
化合物半导体
PT100 压力变送器利用压阻式压力传感器，来检测介质的压力变化，并将压力转换为电信号输出；可测量气路盘、工艺腔和传输腔等位置的压力变化；广泛应用于集成电路、先进封装、半导体照明、功率半导体、化合物半导体等领域。
CVS100 真空开关
半导体-集成电路
特种工业-石油化工
生命科学-医疗健康
科学研究-实验器材
CVS100 真空开关为真空设备、大气开关和真空压力过程提供准确可靠的保护。应用于半导体加工工具、真空泵、压缩机、鼓风机、医疗设备和机床等。
DP100 压差计
半导体-集成电路
特种工业-真空镀膜
生命科学-医疗健康
科学研究-实验器材
DP100 压差计具有极高的准确性和重复性，可用于各种不同应用的工业和电子控制系统中，本产品以超薄膜片为感压元件，可精确测量参考腔室和测试腔室之间的气体压力差值。
CS100 热式数字气体质量流量控制器
清洁能源—光伏
特种工业—石油化工
特种工业—光纤
特种工业—真空镀膜
特种工业—热处理
生命科学—环境保护
生命科学—食品工业
生命科学—医疗健康
生命科学—分析仪器
科学研究—实验器材
CS100产品是基于华丞电子CS系列产品技术平台开发，在拥有恒功率传感器技术，数字传感器平衡技术，VCP线控制技术的基础上，采用客户定制化设计，客户可根据需要选用符合自身需求的产品，同时其独创的客户零点补唯功能(CGC)，能够解决由于客户地线连接导致的MFC精度不准问题，使产品更好的适应客户环境。
CS200 热式数字气体质量流量控制器
半导体—集成电路
半导体照明
清洁能源—光伏
清洁能源—氢能燃料电池
特种工业—石油化工
特种工业—光纤
特种工业—真空镀膜
特种工业—热处理
生命科学—环境保护
生命科学—食品工业
生命科学—生物工程
生命科学—医疗健康
生命科学—分析仪器
科学研究—实验器材
CS200 热式数字气体质量流量控制器采用先进传感器和温度补偿技术，因此产品精度可以达到设定值1%以内，并且低温度系数可以保证产品适应不同的环境温度。同时，产品采用高速控制算法使整个流量控制器的响应时间方面更加岀色。
CS210 热式数字气体质量流量控制器
半导体照明
特种工业—石油化工
特种工业—光纤
特种工业—真空镀膜
特种工业—热处理
生命科学—环境保护
生命科学—食品工业
生命科学—生物工程
生命科学—医疗健康
生命科学—分析仪器
科学研究—实验器材
CS210 热式数字气体质量流量控制器是一款数模兼容的热式原理产品，可广泛应用于光伏、燃料电池、真空等行业，用于控制工艺制程的气体流量，具有高精度、高稳定性、低零漂等特点。
CS230A 热式数字气体质量流量控制器
清洁能源—光伏
特种工业—热处理
生命科学—环境保护
生命科学—食品工业
CS230A产品是华丞电子研发的中大流量产品,最高流量可达300SLM氮气,并可实现数字/模拟控制模式;产品采用高速控制算法使整个流量计的响应时间方面更加出色,最多2秒的高速响应将使用过程中产生的系统误差最小化,流量更加精准,产品具备低零漂、低温漂性能,产品支持 DeviceNet,RS485通讯协议。
DS312 压力式气体质量流量控制器
半导体—集成电路
半导体—微机电系统
功率半导体
化合物半导体
半导体—先进封装
半导体显示
半导体照明
DS312 是一款控制精度高、相应速度快的质量流量控制器（MFC），主要用于刻蚀机等对机器性能要求高的半导体机台。
D07-7 热式模拟气体质量流量控制器
特种工业—石油化工
特种工业—光纤
特种工业—真空镀膜
特种工业—热处理
生命科学—环境保护
生命科学—食品工业
生命科学—生物工程
生命科学—医疗健康
生命科学—分析仪器
科学研究—实验器材
D07-7 热式气体质量流量控制器/流量计根据毛细管传热温差量热法原理，设置模拟量程，不因温度和压力的波动而失准，无需进行温度、压力补偿即可实现对各种气体精准测量和控制。D07-7系列产品为华丞电子基本款产品，具有稳定性高、重复性好、易维护等特点。
D07-9 热式模拟气体质量流量控制器
清洁能源—光伏
清洁能源—氢能燃料电池
特种工业—光纤
特种工业—真空镀膜
特种工业—热处理
生命科学—环境保护
生命科学—食品工业
生命科学—生物工程
生命科学—医疗健康
生命科学—分析仪器
科学研究—实验器材
D07-9 热式气体质量流量控制器/流量计根据毛细管传热温差量热法原理，设置模拟量程，不因温度和压力的波动而失准，无需进行温度、压力补偿即可实现对各种气体精准测量和控制。D07-9系列产品是华丞电子研发高精度、快速响应的模拟产品。
D07-11 热式模拟气体质量流量控制器
特种工业—石油化工
特种工业—光纤
特种工业—真空镀膜
特种工业—热处理
生命科学—环境保护
生命科学—食品工业
生命科学—生物工程 生命
科学—医疗健康
生命科学—分析仪器
科学研究—实验器材
D07-11 热式气体质量流量控制器/流量计根据毛细管传热温差量热法原理，设置模拟量程，不因温度和压力的波动而失准，无需进行温度、压力补偿即可实现对各种气体精准测量和控制。D07-11系列产品为华丞电子研发的高压产品，最高耐压10MPa。
D07-23 热式模拟气体质量流量控制器
清洁能源—光伏
清洁能源—氢能燃料电池
特种工业—光纤
特种工业—真空镀膜
特种工业—热处理
生命科学—环境保护
生命科学—食品工业
生命科学—生物工程
生命科学—医疗健康
生命科学—分析仪器
科学研究—实验器材
D07-23 热式气体质量流量控制器/流量计根据毛细管传热温差量热法原理，设置模拟量程，不因温度和压力的波动而失准，无需进行温度、压力补偿即可实现对各种气体精准测量和控制。D07-23系列产品为华丞电子研发制造的大流量模拟控制产品，具有精度高、易维护、稳定性高等特点，支持零点自动校准功能。
D07-60B 热式模拟气体质量流量控制器
清洁能源—光伏
清洁能源—氢能燃料电池
特种工业—光纤
特种工业—真空镀膜
特种工业—热处理
生命科学—环境保护
生命科学—食品工业
生命科学—生物工程
生命科学—医疗健康
生命科学—分析仪器
科学研究—实验器材
D07-60B 热式气体质量流量控制器/流量计采用毛细管传热温差量热法原理，设置模拟量程，不因温度和压力的波动而失准，无需进行温度、压力补偿即可实现对各种气体精准测量和控制。D07-60系列产品为华丞电子研发制造的超大流量模拟产品，最大流量支持2000SLM，具有稳定性高、易维护等特点。
IGS气路系统
半导体照明
半导体—集成电路
IGS气路系统是专为半导体领域研发的新型气路输送解决方案。它采用气体直路方向运输设计，体积小巧，便于安装与维护，满足零部件小型化需求。华丞电子凭借多年研发经验，赋予其高密封性、高精度和高集成度特点，并依托特殊气体实验室，确保特殊气体控制的高准确性，这也是未来IGS气路系统的发展方向。
VCR气路系统
半导体—集成电路
半导体照明
清洁能源—光伏
特种工业—光纤
特种工业—真空镀膜
生命科学—分析仪器
科学研究—实验器材
VCR气路系统主要采用VCR密封形式，整体气路系统由质量流量控制器、隔膜阀、调压阀、压力传感器、过滤器及不锈钢管件接头等部件组合而成，能够根据客户需求提供多种解决方案。
CS312 热式数字气体质量流量控制器
半导体—集成电路
半导体照明
特种工业—真空镀膜
科学研究—实验器材
CS312 质量流量控制器采用新型低零漂传感器和温度补偿技术，产品精度可达到设 定值1%以内，低温度系数可保证产品适应不同的环境温度，可广泛应用于半导体、 光伏、平板显示等行业的工艺设备中，精确控制工艺气体流量，具有低零漂、高精 度、快响应、耐腐蚀等特点。
CS330 热式数字气体质量流量控制器
半导体—集成电路
清洁能源—光伏
特种工业—真空镀膜
科学研究—实验器材
CS330C、D型 MFC是全金属密封大流量的数字型产品，为气体质量流量的控制、 测量提供了高准确度及高可靠性。该型产品支持提供数字信号，0~5V模拟信号， 4~20mA模拟信号，可以使用双电源（±8~±16VDC）或单电源(+14~+28 VDC)。
LPT100 液体压力传感器
半导体-集成电路
LPT100 液体压力传感器是一款为半导体技术发展需求而研制的高精度耐腐蚀的产品，主要应用于集成电路湿法制程中的CMP、清洗等设备上。
FV100 汽化器
半导体-集成电路
FV100 汽化器是一种将前驱体液体雾化形成液滴气溶胶，然后流入高效热交换器形成蒸汽设备。以提供基本上不含颗粒污染物的高纯度气体或蒸汽混合气，用于半导体薄膜沉积和工业涂层应用的CVD、PECVD、ALD薄膜沉积。
D07-60J 热式模拟气体质量流量控制器
清洁能源—光伏
清洁能源—氢能燃料电池
特种工业—光纤
特种工业—真空镀膜
特种工业—热处理
生命科学—环境保护
生命科学—食品工业
生命科学—生物工程
生命科学—医疗健康
生命科学—分析仪器
科学研究—实验器材
D07-60J 热式气体质量流量控制器/流量计根据毛细管传热温差量热法原理，设置模拟量程，不因温度和压力的波动而失准，无需进行温度、压力补偿即可实现对各种气体精准测量和控制。D07-60系列产品为华丞电子研发制造的超大流量模拟产品，最大流量支持2000SLM，具有稳定性高、易维护等特点。D07-60J产品支持零点自动校准功能。
CS316 热式数字气体质量流量控制器
半导体—集成电路
清洁能源—光伏
CS316是专为关键半导体制造工艺设计的压力不敏感型质量流量控制器，采用了压 力补偿技术，减少前端压力变化对瞬时流量的影响，从而保证了产品的稳定性和准 确性。产品各项技术指标均严格按照SEMI标准，支持W型，C型IGS气路系统。
卡套气路系统
清洁能源-光伏
清洁能源—锂电
卡套气路系统可根据客户需求提供定制化气体输送系统，包括电磁阀、截止阀、干燥器、过滤器、接头等必要部件。
晶圆传输
MX700 晶圆传输平台
半导体显示
半导体照明
功率半导体
晶圆传输平台是半导体工艺设备不可或缺的构成部分，主要实现晶圆在洁净环境以及真空环境下在不同模块下的自动化传输，晶圆传输平台可以快速在大气及真空状态进行切换，满足系统工艺需求。 该设备主要由用于实现晶圆在工艺过程中在不同工艺模块之间的传输。本系统包括前段用于实现上料功能，存放片盒（Cassette，用于承装6寸或8寸的晶圆）的VCE（Vacuum Cassette Elevator，真空片盒升降机），平台真空腔室，真空机械手（Vacuum Robot），真空对准器（Aligner），Cooler冷却组件，晶圆分离组件（WSM）等部件构成。用于实现6吋/8吋晶圆的传输。设备内部带有多重互锁保护，保障晶圆传输过程中，人员与设备的安全。
E300-3T 3工位设备前段模块
半导体—集成电路
半导体—先进封装
EFEM设备前端模块(Equipment Front End Module)能够与各种半导体工艺设备（刻蚀，PVD，CVD，清洗设备等）实现无缝连接，在高洁净环境下，EFEM设备通过高精度机械手实现晶圆在晶圆装载系统与工艺模块之间的自动化传输。晶圆装载系统（Load Port）、晶圆运输机器人（Robot）、晶圆对准器（Aligner）是最核心的三大部件。EFEM设备内部带有多重互锁保护，保障晶圆传输过程中，人员与设备的安全。3工位EFEM设备具备3个Load Port，是一种常用的EFEM设备。
300mm (氮气) 晶圆盒传送存储系统
半导体—集成电路
半导体—先进封装
半导体显示
功率半导体
化合物半导体
光伏
300mm (氮气) 晶圆盒传送存储系统主要由晶圆盒FOUP载入系统LoadPort、晶圆盒FOUP缓存架Shelf、机械手Robot、全密封式FIMS、氮气吹扫系统N2 Purge、气动系统以及电控系统等部分组成。实现晶圆盒FOUP的载入载出、暂存、氮气吹扫和晶圆盒FOUP开关盒等功能。该产品中晶圆盒FOUP载入系统分为A/B两个工位，用于实现晶圆盒FOUP的载入载出，晶圆盒FOUP缓存架共有18个工位，可以实现多个晶圆盒FOUP的存储，在存储过程中氮气吹扫系统N2 Purge功能开启，可以有效降低晶圆盒FOUP内的含氧量及湿度。机械手Robot用于在各工位之间的取放和搬运。全密封FIMS可以实现晶圆盒FOUP开关盒功能并保证Stocker与工艺设备之间的密封要求。
300mm晶圆盒传送存储系统
半导体—集成电路
半导体—先进封装
半导体显示
功率半导体
化合物半导体
光伏
300mm 晶圆盒传送存储系统主要由晶圆盒FOUP载入系统LoadPort、晶圆盒缓存架Shelf、机械手Robot、全密封式FIMS、气动系统以及电控系统等部分组成。实现晶圆盒FOUP的载入载出、暂存和晶圆盒FOUP开关等功能。该产品中晶圆盒FOUP载入系统分为A/B两个工位，用于实现晶圆盒FOUP的载入载出，晶圆盒FOUP缓存架共有18个工位，可以实现多个FOUP的存储。机械手Robot用于在各工位之间的取放和搬运。全密封FIMS可以实现晶圆盒FOUP开关盒功能并保证Stocker与工艺设备之间的密封要求。
Grail B1203A 晶圆传输系统
半导体—集成电路
半导体—先进封装
功率半导体
化合物半导体
Grail B1203A 晶圆传输系统通过与客户天车OHT系统交互实现晶圆盒Foup的进出，通过FOUP机械手移载实现在不同工艺制程Stage之间互传移载和存储，通过内部Loadport实现Foup的开盒和Mapping，通过WTS实现Wafer的移载、合片和分片，通过三个位置的Mapping实现Wafer的状态确认和数据比对，通过固定BF实现50P Wafer缓存，通过PTZ实现与清洗工艺Robot的交接。顶部EFU实现机台微洁净环境的保持，顶部离子棒实现传输路径的静电残留去除。

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