MX700 晶圆传输平台
晶圆传输平台是半导体工艺设备不可或缺的构成部分,主要实现晶圆在洁净环境以及真空环境下在不同模块下的自动化传输,晶圆传输平台可以快速在大气及真空状态进行切换,满足系统工艺需求。
该设备主要由用于实现晶圆在工艺过程中在不同工艺模块之间的传输。本系统包括前段用于实现上料功能,存放片盒(Cassette,用于承装6寸或8寸的晶圆)的VCE(Vacuum Cassette Elevator,真空片盒升降机),平台真空腔室,真空机械手(Vacuum Robot),真空对准器(Aligner),Cooler冷却组件,晶圆分离组件(WSM)等部件构成。用于实现6吋/8吋晶圆的传输。设备内部带有多重互锁保护,保障晶圆传输过程中,人员与设备的安全。
优势
符合SEMI标准
整机设计符合SEMI S2/SEMI F47等半导体行业标准。
定制化
根据用户工艺需求非标定制,满足客户工艺传片需求。
重复定位精度高
真空机械手重复定位精度<±0.1mm。
状态切换快速、稳定
系统可以根须工艺传片需求快速,稳定的进行真空与大气状态的切换。
多重检测传感器
设备配置多个检测传感器,可针对晶圆不同状态检测,保障传输过程稳定可靠。
创新点
双重传输方式
根据工艺需求,可实现晶圆单独传输以及晶圆、托环的同时传输。
检测托环偏移
具备晶圆和托环的分离/组合功能,同时可检测托环的偏移。
位置校准
可针对托环单独位置校准以及晶圆、托环同时进行位置校准。
应用领域
半导体显示
半导体照明
功率半导体
技术指标
洁净度 | ISO Class 1 |
晶圆规格 | 150mm/200mm Si |
晶圆规格 | 300mm标准晶圆(Si) |
设备本底真空 | <1Torr |
设备漏率 | 传输腔<15mT/min,VCE<2mT/min |
机械手传片精度 | <±0.1mm |
传片压力 | 50mbar (可根据工艺要求进行实时控压) |
PM取片温度 | < 600℃ |
真空机械手 | Z轴行程35mm,最远伸出距离1010mm |
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