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流体控制流体控制是利用各种控制单元来精确控制流体流量、压力、真空度等关键指标,以满足工业领域的特殊工艺需求。华丞电子深耕流体控制领域40余年,目前已形成气体质量流量控制器、压力控制器、真空规、真空压力开关、压力传感器、压差计、液体压力传感器、汽化器、气路系统等系列产品。这些产品在集成电路、新能源光伏、真空镀膜、食品、医疗及科学研究等众多领域都发挥着至关重要的作用。
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气体流量测量控制气体质量流量控制器(MFC)属于一种工业自动化仪表。华丞电子自1979年研制出第一款热式模拟气体质量流量控制器以来,持续迭代创新,不断优化性能,相继推出了热式数字气体质量流量控制器和压力式数字气体质量流量控制器,产品具有高精度、高可靠性、低零漂、耐腐蚀、快速响应等优势。目前产品种类多达50 余种,涵盖普通型、大量程型、高精度型、快响应型、耐压型、金属密封型等,已成为高端制造领域不可或缺的核心零部件之一。
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真空测量控制华丞电子不断拓宽产品线,基于气体质量流量控制器先进技术研发经验,成功研发生产了气体压力控制器、电容薄膜真空规、压力变送器、真空压力开关、蝶阀、摆阀等精密控制零部件,产品各项技术指标均严格执行SEMI标准,具有高精度、高稳定性、快速响应、重复性强等优势,为高端制造领域提供稳定真空测控产品,确保生产过程的稳定性和质量的一致性。
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液体流量测量控制华丞电子拥有种类多样的液体控制类产品,涵盖了液体流动、温度、液位、计量以及控制等多个方面,包括液体压力传感器、液体加热器、液体流量控制器、液体流量计、汽化器以及蒸汽过滤器等产品。通过应用各种控制元件、传感器和控制系统,实现对液体的精确控制。
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半导体领域
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气路系统作为精密流体控制的集成者,华丞电子充分发挥零部件平台整合优势,精研客户需求,将气路设计能力、精密加工能力和系统测试能力深度融合。通过将气体质量流量控制器、隔膜阀、调压阀、压力传感器、过滤器等核心零部件优化配置,可实现对多种工艺气体的压力调节、过滤、流量控制、混流等功能,为客户提供定制化VCR、IGS和卡套型气路系统整体解决方案。凭借多年流体控制研发生产经验,并依托自有特气实验室等优势,华丞电子气体系统具备高密封性、高精度、高集成、安全可靠度高等优点。
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等离子体控制射频控制&检测产品包括射频电源、匹配器、射频传感器和直流电源,旨在通过领先的技术实现精准的等离子体控制,为半导体制造工艺 (如刻蚀、薄膜沉积等) 提供稳定的射频能量输出。华丞电子多年潜心研发,拥有多品类的射频控制&检测产品,也可开发定制化的配置和功能来满足特定的应用要求。射频电源工作频率覆盖400kHz至13.56MHz,功率范围从5W至45kW,并支持扫频功能与多种脉冲模式。匹配器产品具有单输出、双输出、多频等多种规格,工作频率覆盖400kHz至60MHz,通过基于模型的动态阻抗匹配算法,实现射频能量高效、精确传输至等离子体腔体,满足半导体等领域的复杂需求。射频传感器能够对反应腔室状态进行电压、电流、阻抗和相位等实时检测,为半导体工艺装备提供稳定的过程监控及故障诊断。ESC直流电源是静电卡盘 (ESC)专用电源,具有最高达15kV (±7.5kV) 的电压输出,包括双极型和单极型,可适配各类静电卡盘,为晶圆吸附提供稳定静电场。
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射频电源射频电源是一种能够产生一定频率正弦波的电源设备,其核心功能是通过直流供电单元、射频功率单元、测量模块、控制模块、通 讯接口等电路系统,将工厂端电能转换为高频电能,并且功率/频率可得到精确控制。
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半导体领域
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匹配器匹配器用于匹配射频电源与反应腔室间的阻抗,实现射频功率最大化传输到反应腔室中。匹配器可基于实际应用场景进行定制化开 发,能够在不同频率、不同功率范围实现快速、准确及稳定的阻抗匹配。
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半导体领域
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直流/低频电源直流/低频电源是指通过能量转换机制将交流电或其他能量形式转化为直流/低频电能的电源设备。ESC直流电源是一款专用于半导 体领域的高压产品,可适配单极/双极,库伦型/JR型等静电卡盘,为晶圆吸附提供稳定的静电场;RPS电源是一款专用于半导体领 域的高稳定性低频电源,广泛应用于氧化物、氮化物等清洗工艺设备,为其维持稳定的等离子体。
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半导体领域
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运动控制运动控制是通过智能运动控制系统实现晶圆可靠性传输和存储,通过优异的产能管理、颗粒物控制、振动抑制、运动路径规划等技术实现高良率控制。华丞电子研发生产的晶圆传输产品可实现晶圆单片、批次的大气和真空稳定传输控制,目前研发制造的晶圆盒传送存储系统、晶圆传输系统、设备前端模块、晶圆传输平台已经在半导体和泛半导体领域多家客户端实现量产交付。
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晶圆盒传送存储系统 Stocker晶圆盒传送存储系统Stocker设备主要应用于半导体领域,在立式炉生产工艺中对晶圆盒FOUP起到缓存作用。Stocker设备有效解决了立式炉工艺与上下游工艺之间供应量及节拍不匹配的问题,同时也实现了全自动晶圆盒FOUP的开关功能,避免了人为干预产生的影响,保证了立式炉生产工艺的洁净环境,提高了产品质量。
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半导体领域
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晶圆传输系统(WTS)通过与客户天车OHT系统交互实现晶圆盒Foup的进出,通过FOUP机械手移载实现在不同工艺制程Stage之间互传移载和存储,通过内部Loadport实现Foup的开盒和Mapping,通过WTS实现Wafer的移载、合片和分片,通过三个位置的Mapping实现Wafer的状态确认和数据比对,通过固定BF实现50P Wafer缓存,通过PTZ实现与清洗工艺Robot的交接。顶部EFU实现机台微洁净环境的保持,顶部离子棒实现传输路径的静电残留去除。
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半导体领域
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设备前端模块(EFEM)EFEM设备即设备前端模块(Equipment Front End Module)。EFEM设备能够与各种半导体工艺设备(刻蚀,PVD,CVD,清洗设备等)实现无缝连接,保证晶圆在洁净环境下的自动化传输和对晶圆的高效管理。EFEM设备内部带有多重互锁保护,保障晶圆传输过程中,人员与设备的安全。
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半导体领域
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晶圆传输平台(WTM)晶圆传输平台是半导体工艺设备不可或缺的构成部分,主要实现晶圆在洁净环境以及真空环境下在不同模块下的自动化传输,晶圆传输平台可以快速在大气及真空状态进行切换,满足系统工艺需求。该设备通常根据客户需求定制开发,满足客户工艺传片的需求。
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半导体领域
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流体控制流体控制流体控制是利用各种控制单元来精确控制流体流量、压力、真空度等关键指标,以满足工业领域的特殊工艺需求。华丞电子深耕流体控制领域40余年,目前已形成气体质量流量控制器、压力控制器、真空规、真空压力开关、压力传感器、压差计、液体压力传感器、汽化器、气路系统等系列产品。这些产品在集成电路、新能源光伏、真空镀膜、食品、医疗及科学研究等众多领域都发挥着至关重要的作用。
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气体流量测量控制气体流量测量控制气体质量流量控制器(MFC)属于一种工业自动化仪表。华丞电子自1979年研制出第一款热式模拟气体质量流量控制器以来,持续迭代创新,不断优化性能,相继推出了热式数字气体质量流量控制器和压力式数字气体质量流量控制器,产品具有高精度、高可靠性、低零漂、耐腐蚀、快速响应等优势。目前产品种类多达50 余种,涵盖普通型、大量程型、高精度型、快响应型、耐压型、金属密封型等,已成为高端制造领域不可或缺的核心零部件之一。
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真空测量控制真空测量控制华丞电子不断拓宽产品线,基于气体质量流量控制器先进技术研发经验,成功研发生产了气体压力控制器、电容薄膜真空规、压力变送器、真空压力开关、蝶阀、摆阀等精密控制零部件,产品各项技术指标均严格执行SEMI标准,具有高精度、高稳定性、快速响应、重复性强等优势,为高端制造领域提供稳定真空测控产品,确保生产过程的稳定性和质量的一致性。
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液体流量测量控制液体流量测量控制华丞电子拥有种类多样的液体控制类产品,涵盖了液体流动、温度、液位、计量以及控制等多个方面,包括液体压力传感器、液体加热器、液体流量控制器、液体流量计、汽化器以及蒸汽过滤器等产品。通过应用各种控制元件、传感器和控制系统,实现对液体的精确控制。
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半导体领域半导体领域
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气路系统气路系统作为精密流体控制的集成者,华丞电子充分发挥零部件平台整合优势,精研客户需求,将气路设计能力、精密加工能力和系统测试能力深度融合。通过将气体质量流量控制器、隔膜阀、调压阀、压力传感器、过滤器等核心零部件优化配置,可实现对多种工艺气体的压力调节、过滤、流量控制、混流等功能,为客户提供定制化VCR、IGS和卡套型气路系统整体解决方案。凭借多年流体控制研发生产经验,并依托自有特气实验室等优势,华丞电子气体系统具备高密封性、高精度、高集成、安全可靠度高等优点。
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等离子体控制等离子体控制射频控制&检测产品包括射频电源、匹配器、射频传感器和直流电源,旨在通过领先的技术实现精准的等离子体控制,为半导体制造工艺 (如刻蚀、薄膜沉积等) 提供稳定的射频能量输出。华丞电子多年潜心研发,拥有多品类的射频控制&检测产品,也可开发定制化的配置和功能来满足特定的应用要求。射频电源工作频率覆盖400kHz至13.56MHz,功率范围从5W至45kW,并支持扫频功能与多种脉冲模式。匹配器产品具有单输出、双输出、多频等多种规格,工作频率覆盖400kHz至60MHz,通过基于模型的动态阻抗匹配算法,实现射频能量高效、精确传输至等离子体腔体,满足半导体等领域的复杂需求。射频传感器能够对反应腔室状态进行电压、电流、阻抗和相位等实时检测,为半导体工艺装备提供稳定的过程监控及故障诊断。ESC直流电源是静电卡盘 (ESC)专用电源,具有最高达15kV (±7.5kV) 的电压输出,包括双极型和单极型,可适配各类静电卡盘,为晶圆吸附提供稳定静电场。
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射频电源射频电源射频电源是一种能够产生一定频率正弦波的电源设备,其核心功能是通过直流供电单元、射频功率单元、测量模块、控制模块、通 讯接口等电路系统,将工厂端电能转换为高频电能,并且功率/频率可得到精确控制。
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半导体领域半导体领域
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匹配器匹配器匹配器用于匹配射频电源与反应腔室间的阻抗,实现射频功率最大化传输到反应腔室中。匹配器可基于实际应用场景进行定制化开 发,能够在不同频率、不同功率范围实现快速、准确及稳定的阻抗匹配。
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半导体领域半导体领域
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直流/低频电源直流/低频电源直流/低频电源是指通过能量转换机制将交流电或其他能量形式转化为直流/低频电能的电源设备。ESC直流电源是一款专用于半导 体领域的高压产品,可适配单极/双极,库伦型/JR型等静电卡盘,为晶圆吸附提供稳定的静电场;RPS电源是一款专用于半导体领 域的高稳定性低频电源,广泛应用于氧化物、氮化物等清洗工艺设备,为其维持稳定的等离子体。
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半导体领域半导体领域
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运动控制运动控制运动控制是通过智能运动控制系统实现晶圆可靠性传输和存储,通过优异的产能管理、颗粒物控制、振动抑制、运动路径规划等技术实现高良率控制。华丞电子研发生产的晶圆传输产品可实现晶圆单片、批次的大气和真空稳定传输控制,目前研发制造的晶圆盒传送存储系统、晶圆传输系统、设备前端模块、晶圆传输平台已经在半导体和泛半导体领域多家客户端实现量产交付。
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晶圆盒传送存储系统 Stocker晶圆盒传送存储系统 Stocker晶圆盒传送存储系统Stocker设备主要应用于半导体领域,在立式炉生产工艺中对晶圆盒FOUP起到缓存作用。Stocker设备有效解决了立式炉工艺与上下游工艺之间供应量及节拍不匹配的问题,同时也实现了全自动晶圆盒FOUP的开关功能,避免了人为干预产生的影响,保证了立式炉生产工艺的洁净环境,提高了产品质量。
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半导体领域半导体领域
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晶圆传输系统(WTS)晶圆传输系统(WTS)通过与客户天车OHT系统交互实现晶圆盒Foup的进出,通过FOUP机械手移载实现在不同工艺制程Stage之间互传移载和存储,通过内部Loadport实现Foup的开盒和Mapping,通过WTS实现Wafer的移载、合片和分片,通过三个位置的Mapping实现Wafer的状态确认和数据比对,通过固定BF实现50P Wafer缓存,通过PTZ实现与清洗工艺Robot的交接。顶部EFU实现机台微洁净环境的保持,顶部离子棒实现传输路径的静电残留去除。
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半导体领域半导体领域
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设备前端模块(EFEM)设备前端模块(EFEM)EFEM设备即设备前端模块(Equipment Front End Module)。EFEM设备能够与各种半导体工艺设备(刻蚀,PVD,CVD,清洗设备等)实现无缝连接,保证晶圆在洁净环境下的自动化传输和对晶圆的高效管理。EFEM设备内部带有多重互锁保护,保障晶圆传输过程中,人员与设备的安全。
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半导体领域半导体领域
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晶圆传输平台(WTM)晶圆传输平台(WTM)晶圆传输平台是半导体工艺设备不可或缺的构成部分,主要实现晶圆在洁净环境以及真空环境下在不同模块下的自动化传输,晶圆传输平台可以快速在大气及真空状态进行切换,满足系统工艺需求。该设备通常根据客户需求定制开发,满足客户工艺传片的需求。
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半导体领域半导体领域
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气体流量测量控制
半导体领域
清洁能源领域
特种工业领域
生命科学领域
科学研究领域
半导体领域

CS200 热式数字气体质量流量控制器

CS210 热式数字气体质量流量控制器

DS312 压力式气体质量流量控制器

CS312 热式数字气体质量流量控制器

CS330 热式数字气体质量流量控制器

CS316 热式数字气体质量流量控制器
清洁能源领域

CS100 热式数字气体质量流量控制器

CS200 热式数字气体质量流量控制器

CS230A 热式数字气体质量流量控制器

D07-9 热式模拟气体质量流量控制器

D07-19 热式模拟气体质量流量控制器

D07-23 热式模拟气体质量流量控制器

D07-60B 热式模拟气体质量流量控制器

CS330 热式数字气体质量流量控制器

D07-60J 热式模拟气体质量流量控制器

CS316 热式数字气体质量流量控制器
特种工业领域

CS100 热式数字气体质量流量控制器

CS200 热式数字气体质量流量控制器

CS210 热式数字气体质量流量控制器

CS230A 热式数字气体质量流量控制器

D07-7 热式模拟气体质量流量控制器

D07-9 热式模拟气体质量流量控制器

D07-11 热式模拟气体质量流量控制器

D07-19 热式模拟气体质量流量控制器

D07-23 热式模拟气体质量流量控制器

D07-60B 热式模拟气体质量流量控制器

CS312 热式数字气体质量流量控制器

CS330 热式数字气体质量流量控制器

D07-60J 热式模拟气体质量流量控制器
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