双输出匹配器-北京华丞电子有限公司

双输出匹配器

双输出匹配器广泛应用与刻蚀，薄膜沉积等半导体设备中，用于匹配等离子体设备中射频电源与反应腔室的阻抗，实现射频功率最大化传输到反应腔室中。

优势

全自动化的电流比例控制

根据输出端的电流传感器实时监控电流信号，通过控制器实现电流比例按照客户需求自动调节控制和快速响应。

宽范围电流比例应用窗口

实现内外线圈电流比例0.1-10的范围调节，显著提高工艺均匀性。

宽范围电流比例应用窗口

适用于刻蚀机台的各种工艺应用中，可以满足高速等离子体点火和阻抗匹配，特别是在Bosch工艺中可实现快速匹配，满足高身宽比刻蚀需求。

创新点

实时电流比例控制算法

型自动电流比例控制算法，根据输出端的电流传感器实时监控的电流信号，通过控制算法自动调节，实现内外线圈上的电流比例自动达到目标值。

大电流输出传感器技术

针对输出端高电压大电流信号，能够实现大范围的电流信号采样和准确测量，用于高端工艺中对均匀性的调节算法应用。

高速等离子体点火算法

特别优化后的算法，适用于刻蚀机台的各种工艺应用中，可以满足高速等离子体点火和阻抗匹配，特别是在Bosch工艺中可实现快速匹配，满足高身宽比刻蚀需求。

应用领域

半导体-集成电路

半导体-先进封装

半导体显示

半导体照明

半导体-微机电系统

功率半导体

化合物半导体

技术指标