涵盖射频电源、匹配器、射频传感器及直流/低频电源等核心产品。射频电源工作频率覆盖400kHz至13.56MHz、功率5W至45kW，适配多场景应用需求；匹配器提供单输出、双输出、多频等规格，灵活满足不同工艺需求；射频传感器可实时监测反应腔室电压、电流、阻抗及相位，为半导体工艺装备提供稳定监控与故障诊断；ESC直流电源专为静电卡盘设计，最高输出15kV（±7.5kV），含双极型与单极性，适配各类静电卡盘。
 

包括气体质量流量控制器（涵盖压力式、数字式及模拟式）、液体流量控制器、流量比例控制器等产品，兼具高精度、高可靠性、低零漂、耐腐蚀、快响应等优势，可精准把控气液流量，满足严苛工艺环境流量控制需求。
 

推出气体压力控制器、电容薄膜真空规、压力变送器、液体压力传感器、蝶阀以及摆阀等产品，可为高端制造领域提供稳定、可靠的控压解决方案，保障工艺稳定性。
 

深度融合气/液路设计、精密加工与系统检测能力，依托丰富的流量与真空测控研制经验，可为客户提供定制化产品。同时，提供IGS、VCR及卡套三种类型气/液路系统整体解决方案，可适配不同场景的个性化需求。
 

涵盖立式炉管设备晶圆储存系统（Stocker）、清洗设备晶圆传输系统（WTS）等核心产品，以及刻蚀与沉积设备前端模块（EFEM）、晶圆传输平台（WTM），可实现晶圆传输的精准、高效、无损伤，助力半导体制造流程升级。